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我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進(jìn)行母版制作或對基板上的復雜結構進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車(chē)削或直接寫(xiě)入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。