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RTEC 白光干涉儀+共聚焦一體機

簡(jiǎn)要描述:該儀器具備轉盤(pán)式針孔共聚焦和白光干涉兩種光學(xué)測量技術(shù),用于各種材料/涂層/器件的高精度表面三維特征 測量,能夠測量從粗糙的到光滑的,堅硬的到柔軟的,黏性的表面以及各種場(chǎng)合下難于測量的表面,適用于金屬材 料、非金屬材料、復合材料、薄膜、涂層、器件等各種各樣材料的表面微觀(guān)結構特征的3D成像,提供各種粗糙度, 表面結構的臺階高度,角度、體積、長(cháng)度、深度等多種數據的測試分析、相似特征的統計分析,輪廓提取等

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時(shí)間:2024-03-19
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量: 2472

詳細介紹

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- 2D形貌、3D形貌、二進(jìn)制圖像、顯微圖像、等高線(xiàn)圖像。


- 提取區域、提取剖面、抽取邊界輪廓、將一個(gè)表面轉換為一個(gè)剖面系列、重新取樣、基準面校平。


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半導體方向的應用-晶圓/芯片,MEMS,Mask,PCB,Microlens,絕緣層等

① 各種減薄、研磨、拋光之后的表面粗糙度、表面三維形貌、加工紋理、瑕疵的檢測


② 晶圓IC制造過(guò)程中各種微納結構的三維形貌、臺階高度等三維尺寸、制造缺陷的檢測、以及光罩上的異物和瑕疵檢測


③ 薄膜的厚度、表面粗糙度及缺陷的測量


④ 表面機械損傷、表面冗余物的檢測




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